建模过程1.画圆。9-1.把上方的角度改为：0.001度，并复制左侧的标注名称。10-1.双击文字，小数消失。12-1.勾选：变化的实例，选择：0度标注，增量：10。
1.【上视基准面】画圆。
2.【拉伸凸台】给定深度：30或50 。
3.【前视基准面】画矩形，添加：中点几何关系。
3-1.添加标注。
4.【包覆】包覆类型：蚀雕 ；包覆方法：分析 ；深度：0.1 。
5.【圆周阵列】特征，方向：蓝色面 ；实例间距：1度 ，数量：10 。
6.【移动面】选择蓝色面，向下等距：3 。
7.【移动面】选择第六个蓝色面，向下等距：1.5。
8.【圆周阵列】实例间距：10度 ，数量：36个；特征：包覆1、圆周阵列1、两个移动面 ；勾选：几何体阵列 。
9.【前视基准面】画草图。
9-1.把上方的角度改为：0.001度 ，并复制左侧的标注名称 。（角度不能用0度）
9-2.【草图文字】选择直线，粘贴名称（添加英文输入法的：" "），修改：文字高度：3。（文字目前还有小数点）
10.软件右下角——编辑文档单位，角度小数：无 。
10-1.双击文字，小数消失。
11.【包覆】。
12.【圆周阵列】实例间距：10，数量：36 。
12-1.勾选：变化的实例，选择：0度标注，增量：10 。（这一步非常慢，注意提前保存）
13.性能评估，上一个圆周阵列用时很长。
14.完成。
